产品介绍：
1.采用微处理器控制系统，磨抛盘转速为：工作盘直径Φ250mm，50-600r/min（无级调速），并且可以自由改变旋转方向，从而使本机具有更加广泛的应用性；
2.本机具有双控制系统，可供两人同时操作；
3.本机带有冷却装置，可以在研磨抛光时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织；
4.该机使用方便、安全可靠，是工厂、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。

5. 本磨抛机为台式双盘双控磨抛机，适用于对金相试样进行粗磨、精磨和抛光操作。

技术参数：