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在金相试样制备和光谱分析应用中，试样的磨平是金相制样
和光谱分析前必不可少的重要工序。
产品介绍：
在金相试样制备和光谱分析应用中，试样的磨平是金相制样和光谱分析前必不可少的重要工序。GPM-2-300型光谱磨平机整机采用喷塑工艺制作，双盘独立控制，磨盘无级调速，独特罩壳设计可有效保障磨样安全，机箱内装有吸尘装置可避免环境污染，该机启动平稳、传动功率大、噪音低，可满足不同材料的制备要求，提高试样的磨抛质量和制备效率，是一种非常合适和功能完善的金相制样制备。
技术参数：
型号 | GMP-2-300 |
磨盘直径 | 300mm |
砂纸直径 | 300mm |
转速 | 无级调速100~1400r/min 或四档速300, 600, 900, 1400 r/min |
转向 | 顺时针或逆时针 |
电机功率 | 550W |
显示及操作 | 数码管显示，薄膜按键操作，带吸尘装置 |
输入电源 | 单相220V, 50Hz, 10A |
外形尺寸 | 820×440×940mm |
净重 | 122kg |
